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AccuSizer 780 A7000 AD多功能自動計數粒度儀集自動稀釋、自動檢測、數據處理以及自動清洗等全自動檢測功能于一身，為用戶提供可方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析。其搭載的LE系列傳感器采用*光阻法+光散法單顆粒光學傳感技術（SPOS），擁有512通道的超高分辨率，其搭配的自動稀釋的機制，可真實的對大量粒子樣本進行粒徑測試并計數，高樣品濃度達到10⁹#/ml，粒徑檢測范圍0.5μm –400 μm。

獨立試驗顯示AD在電化學拋光法（CMP）過程所使用的磨料漿（slurry）中對大顆粒的檢測要比傳統的激光散射法其靈敏度要高1,500到25,000倍。同樣，此款儀器可以應用在墨水、顏料、色素、藥物乳劑等行業，這些應用中少量的“尾部”;大顆粒是判斷一個產品成功或者失敗的重要標準。

技術優勢

v 檢測范圍廣0.5μm-400μm；

v 高分辨率，高靈敏性，統計精度高；

粒子靈敏度 ≤10PPT

粒徑準確度 ≥98%

粒子計數準確度 ≥90%

v 現場校準，無需返廠；

v 模塊化設計，便于升級及維護；

v 512通道，不放過任何細微顆粒；

v 符合美國藥典USP,中國藥典CP，CE等要求;

v 集自動檢測、數據處理以及自動清洗等自動化功能與一身；

v 512數據通道

對于顆粒計數器來說，通道數越多，意味著其在特定測量量程內劃分的區域越多。AccuSizer 780 顆粒計數器系列的儀器對于0.5μm - 400.0μm的測量范圍按照指數等級劃分有512個通道，意味著其在粒徑越小處劃分的范圍越細，例：1.586μm-1.675μm。這樣做的優點是顯而易見的，一方面儀器實現了計數的金準性，將測量的結果作細致的分析，而不是將結果作大致的分類。另一方面，對于測量復雜體系和多組分的樣品，數據能很好的體現在結果圖譜及數據中。

如上四張圖是同樣一個樣本在使用不同通道的時候的表現，明顯可以看出，使用8、16、32個通道的時候，僅僅能判斷顆粒度在一個范圍內，不能明確到底多大。而換用512高通道后，粒徑大小的辨析度明顯增加，對于峰值的判斷更加清晰明了。

v 高分辨率

l 高通道的優勢換來的是高分辨率的優勢。所謂分辨率，在這里指的是分辨同一體系內不同粒徑大小的能力。得益于超前的設計理念和軟硬件組合，AccuSizer 780系列儀器除了能夠呈現*不同于經典光散射的顆粒計數分布外，相對于經典的電阻法和光阻法，具有更高的分辨率和金準性。它不會錯過任何“尾部” 大顆粒，而這些“尾部”大顆粒往往是決定產品好壞的標準。

工作原理

目錄結構：

1.單顆粒光學傳感技術簡介

2.傳統光阻法和光散法測量粒度的原理

3.PSS的SPOS技術介紹

4.磚利的自動稀釋原理介紹

v 1. 單顆粒光學傳感技術簡介

單顆粒光學傳感技術（Single Particle Optical Sizing, SPOS）是一種用于測量溶劑中懸浮粒子的大小和數量濃度的激光粒度檢測通用技術。在SPOS技術中液體懸浮液中的粒子流經傳感器的樣品池時，在激光光源的照射下，被阻擋或者被散射的光會轉變成脈沖電壓信號，脈沖信號的大小是由粒子的截面面積和物理判定規則即光散射或者光阻共同決定的。光阻也被稱為不透光度或者光消減。而粒子間的相互阻擋和散射是和粒子的大小和濃度是有關系的，利用脈沖幅度分析器和校準曲線便可以得到懸浮粒子的數量濃度和粒度大小分布。傳統光阻法可以測得1.5μm以上的粒子和并具有較高的分辨率。

單顆粒傳感技術（SPOS）*常見粒度儀檢測技術在檢測粒徑分布中的重要不足—粒子數量的統計。自AccuSizer 780系列儀器誕生，以往以犧牲金確性和分辨率來換取檢測速度和易用的歷史一去不復返！

儀器參數

分析方法及原理	光阻法（基于單顆粒光學傳感技術）光阻+光散法（基于單顆粒光學傳感技術）
測量范圍（傳感器可選）	0.5-400μm 1.5-400μm 2.0-1000μm 25.0-2500μm 50.0-5000μm
樣品類型	水相/有機相
通道數量	512
自定義通道數	32
流速范圍	60-180ml/min
進樣量	5μl-10ml
取樣方式	手動
自動稀釋	標配一步稀釋
樣品濃度限值	10⁹個/ml
符合標準	CE
Chamber	30ml，60ml
電動閥門驅動	標配
稀釋劑	標配：超純水選配：有機溶劑
攪拌器	標配：磁力攪拌（轉速可控）
Windows系統	Windows 7以上專業版操作軟件
分析操作軟件	標配：Windows兼容研發軟件
電源選項	220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz
外形尺寸	主機1（計數器）：20 cm 45 cm 20 cm；主機2（自動稀釋系統）：25 cm * 45 cm * 56 cm；
重量	約30kg

配件

傳感器	LE400-05（0.5μm-400μm） LE400-1（1μm-400μm） LE1000-2（2μm-1000μm） LE2500-5（5μm-2500μm） LE5000-50（50μm-5000μm）	提供了寬泛的測量范圍，客戶可以根據自己實際需要，選擇適合自己樣品的測量范圍的傳感器。
閥門	電子閥	電控
Chambe &轉子r	30ml，60ml	1、由高凈石英加工，并配合PFA上、下蓋實現樣品一步金確的靜態稀釋； 2、并可視化跟蹤樣品的實時狀態； 3、光凈的內表面實現高效率的快速清洗； 4、標配PFA外衣的磁力攪拌子，實現靜態稀釋過程中樣品的快速分散，稀釋過程中被稀釋樣品的穩定均一；
其他管路	1/4 1/8 3/8	不同規格的高純PFA管路配合316不銹鋼以及PTFE接頭，滿足稀釋系統的各項嚴苛要求；
計量泵	30-120ml/min	配備相位傳感器由步進電機驅動陶瓷材質的柱塞式泵頭，實現對稀釋劑流量的金確控制以及超長的使用壽命；
Cable	10/14針	Counter與Sensor、Sampler的連接采用航空級鋁制插頭，實現超長使用壽命及超高的通訊穩定性；
過濾器	Millipore定制0.2μm	滿足藥典對稀釋劑中不溶性微粒數量的要求，減少由于背景給測量結果帶來的負面影響；
清洗套件	Mirco 90	傳感器Flow cell轉用清洗套裝，保證在長期使用之后可以恢復清潔狀態；
性能確認用標粒	PQ：MML 0.8&2&5	采用符合NIST的進口標準粒子對設備進行性能確認；
校準用標粒	Duke：0.5；0.7；0.8；1.0；1.7；2.0；5.0；10；15；25；50；100μm	采用符合NIST的進口標準粒子對傳感器進行校準；
軟件	研發版 CW788	研發軟件可協助非醫藥客戶對未知樣品的分析及檢測；

應用領域

化學機械拋光液(CMP SLURRY)

化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟?；瘜W機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質量至關重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學機械拋光加工過程的順利進行。

墨水

隨著打印機技術的不斷發展，打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應當控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質量。墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設備監測其研磨加工過程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產生聚集的大顆粒。

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